空氣品質偵測器 (indoor AIR Quality,iAQ)

適用環境

  • 政府機關辦公場所
  • 學校
  • 銀行
  • 醫療機構
  • 圖書館、博物館、美術館、表演廳、展覽室
  • 大眾運輸:航空、鐵路車站、捷運車站行
  • 電影院、視聽歌唱業場所
  • 百貨公司、量販店

偵測項目

量測空氣因子 溫度 濕度 二氧化碳 CO2 一氧化碳 CO 細懸浮微粒 PM2.5 懸浮微粒 PM10 總揮發性有機氣體 TVOC 甲醛 HCHO
偵測範圍 -40~125 ℃ 0~100% RH 400~2,000 ppm 0~1,000 ppm 0~500 μg/m³ 0~500 μg/m³ 0.13~2.5 ppm 0.00~5.00 ppm
解析度 0.1 ℃ 0.1%RH 1 ppm 1 ppm 1 μg/m³ 1 μg/m³ 0.01 ppm 0.01 ppm
偵測方式 微機電晶片 非分散性紅外線 電化學式 光學式 光學式 微機電晶片 電化學式
反應時間 < 30秒 < 30秒 < 120秒 < 30秒 < 10秒 < 10秒 < 10秒 < 10秒
熱機時間 < 60秒 < 300秒
取樣方式 即時
傳輸介面 WiFi(選配) / BLE4.0(選配) / RS485(Modbus-RTU) (選配)
電源分配 直流5V/1.0安培 or 直流12-24V/0.5安培
操作環境 0℃ ~ 50℃, 低於90% RH
尺寸 158mm(長) x 115mm(寬) x 32mm(高)

產品特色

  • 偵測器採用壁掛設計方式,外觀輕巧精簡美觀。
  • 專業的機體結構導入氣流設計可有效即時偵測環境空氣品質。
  • 產品採用之感測器為MIT研發之演算法,並於出貨前進行校正。
  • 通訊介面具備無線WiFi與藍芽BLE4.0(選配)以及RS485端子(選配)。
  • 內建記憶體可儲存約六個月資料。
  • 透過智能化平台可以輕易將收集的空氣資料記錄下來並分析保存、警報告知、啟動空調設備(選配)。

整合架構

監控主機的角色

  • 收集,iAQ量測數據及外加Sensor資料。
  • 量測數據排列比較。
  • 即時檢查,發出警訊。
  • 回線控制設備做動。

建置iAQ好處

  • 企業推動企業責任的開始
  • 節能減碳、環保永續
  • 空氣好,身體更健康
  • 空氣好,工作效率提升
  • 隨時偵測,資料分析無所遁形
  • 隨時預警,提前預知火災、CO外洩
  • 隨時控制,回線啟動設備

設備項目

運用時機

對生產、設備的影響範例

設備特色/規格

精密恆溫恆濕機 (Thermal Control Unit, TCU)

規格
  • 潔淨度控制:ISO Class 1
  • 溫度控制精度: ±0.1℃ ~ ±0.01℃
  • 濕度控制精度:±2%RH ~ ±1%RH
  • 機台內建溫濕度曲綫數據
  • 機台警報、遠程監測及自動防護等功能
功能/效益
  • 提供面板業、晶圓廠、封裝測試廠精密溫濕度控制,確保曝光機、顯影/塗布設備等制程良率
應用類別
  • 產業別
    • 薄型平面顯示器(FPD)
    • 半導體製造
    • 精密機械加工
    • 精密測量
    • 學術研究
  • 供應鏈
    • 面版製造
    • 彩色濾光片
    • 封裝測試
    • 晶圓製造
  • 制程應用
    • 光阻塗布
    • 曝光顯影
    • 鏡面/頭研磨
    • 雷射加工
    • 幾何尺寸測量


潔淨送風機組 (Air Filter Unit, AFU)

規格
  • 潔淨度:ISO Class 1
  • 機台警報訊號上傳:可提供AFU 潔淨送風機組警報訊號與制程設備機台連綫
功能/效益
  • 針對製程環境提供重點區域的潔淨控制,採分離式設計,可避免製程設備受到震動影響
應用類別
  • 製造業
    • 半導體
    • 面板製造
    • IC封測
    • 傳統産業
  • 潔淨環境
    • 藥廠
    • 生技産業
    • 醫院/手術房/病房


恆溫恆濕微污處理設備 (Thermal AMC Unit, TAU)

規格
  • 潔淨度控制:ISO Class 10
  • 溫度控制精度:±0.5℃~±0.3℃
  • 濕度控制精度:±5%RH~±3%RH
  • 氣狀分子污染物去除:Removal >80% in Main AMC 內建溫濕度曲綫數據、警報、遠程監測及自動防護等功能
功能/效益
  • 防止曝光設備鏡面霧以化延長鏡組使用年限
  • 延長曝光設備LAMP使用時間使用年限
  • 提升産品良率使用年限
  • 防止化學污染物腐蝕機台內部元件
應用類別
  • 產業別
    • 薄型平面顯示器(FPD)
    • 半導體製造
  • 供應鏈
    • 面版製造
    • 彩色濾光片
    • 封試
    • 晶圓製造
  • 制程應用
    • 光阻塗布
    • 曝光顯影
    • 防止曝光機鏡面霧化


AMC去除單元 (Hazing prevention unit, HPU)

保護區域
  • 曝光機外氣進氣
  • 曝光機燈箱
潔淨度控制
  • Class 10~1000/ISO Class 4~7
氣狀分子汙染物去除
  • NH3
  • Acid
  • TOC
Model 機種 HPU HPU+
Air Volume 供氣量 50/100/150 m3/min 50/100/150 m3/min
AMC removing AMC去除方案 Chemical Filter 化學濾網 Chemical Filter 化學濾網
Air Condition 環境控制 By Clean Room 23 ± 0.5 ℃


有機溶劑PGMEA回收設備 (Solvent Recycle Unit, SRU)

  • 由於Coating制程中塗布噴頭需不斷地清洗,遂利用Coater VCD exhaust之氣體,藉由熱交換器及純化裝置將其中solvent搜集並存放于儲液槽內,純化後的solvent經washer噴灑在塗布噴頭上,以達清洗目的。